產(chǎn)品概述

CX-9600直讀光譜分析儀（L）優(yōu)勢：
1、全譜光譜儀制造技術(shù)、通道不受限制 ；
2、國內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD/CMOS全譜技術(shù)光譜儀的制造商；
3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用
4、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；
5、同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
6、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；

7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；

CX-9600直讀光譜分析儀（L）主要特點：
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用短的時間達到優(yōu)的分析效果；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性好；
4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小
5、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進行測定；
6、開放式的電極架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設(shè)計了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部*，保證了儀器品質(zhì)。

技術(shù)參數(shù)

光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度

自動控制恒溫：35℃±0.5℃

波長范圍

160-800nm

光柵焦距

350 mm

光柵刻線

3600 l/mm

光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

10pm/pixel

激發(fā)臺

氣 體

沖氬式

氬氣流量

激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量

電 極

鎢材噴射電極技術(shù)

吹 掃

點擊自吹掃功能

補 償

熱變形自補償設(shè)計

分析間隙

樣品臺分析間隙：4mm

激發(fā)光源

類 型

HEPS數(shù)字化固態(tài)光源

頻 率

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計

預(yù) 燃

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

gao端ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接 口

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

輸 入

220VAC 50Hz

功 率

分析時700W，待機狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）

工作濕度

20-80%

尺寸與重量

主機尺寸

800*750*500 mm

重 量

120Kg